氧化鋯研磨介質需要滿足的要求

     氧化鋯珠（簡稱“TZP”鋯珠）以微米級及亞納米級原料，用的工藝制成。主要應用于要求“”及高粘度、高硬度物料的超細研磨及分散，如：電子陶瓷、磁性材料、氧化鋯、氧化硅、硅酸鋯、鈦白粉、醫藥食品、顏料、染料、油墨、特種化工行業。

      1899年在巴西的卡爾達斯（Coldas）發現較大的斜鋯石礦床，在其他地方則很少發現，以后發現的含鋯礦物主要是鋯英石。在1930年開始用斜鋯石試制坩堝，但由于它的抗熱震性較差而未成功。在1929年英國人拉夫（O. Ruff）和埃伯特（Ebert）在ZrO2中加入CaO、MgO，并在1700℃以上高溫燒成，使ZrO2變成立方晶型，而成為穩定的氧化鋯制品，試制成功試驗室用坩堝。1947年美國生產出穩定化氧化鋯耐火材料。1950年美國諾爾頓公司用鋯英石加入焦炭在電弧爐中還原熔融脫硅，制造出含ZrO298%（含2%～6%CaO）的穩定氧化鋯。

      性能好的氧化鋯研磨介質，需要滿足的要求

1、耐磨性，耐磨性的好壞會直接關系到研磨介質在使用過程中的性能，研磨介質在使用過程中不能產生較大的磨損，如果研磨介質的磨耗大，不影響到研磨介質自身的壽命，還會對被研磨的物料產生污染，因此，研磨介質的磨耗應該越小越好。

2、密度，研磨介質的密度越大，比重就越，在同樣條件下，比重大的研磨介質產生的動能更，因此研磨過程所需的時間越短，研磨效率越。

3、圓度和尺寸，對于球形研磨介質來說，球形度越好，圓度偏差越小越好，圓度越好，研磨所得到產品的粒徑分布越均勻。研磨球尺寸越小，在研磨過程中球與球的接觸點就越多，物料被研磨的機會越多，一般來說，被研磨物質的粒度小，研磨介質的直徑也要減小。

4、光滑度，研磨球需要有光滑、光亮的表面，介質表面越光滑，磨損越小。決定磨球表面是否有亮光的因素是球形表面的光滑度；光滑的球面鏡面效果好，粗糙的球面鏡面效果差。影響球形表面平坦度的因素主要包括材料的內部結構和球形表面的外部加工程度。結構包括孔、晶粒尺寸、液相等。球形表面的外部加工是指拋光操作。剛燒結后的研磨球球形表面是無光澤的。拋光后，球形表面將顯示鏡面效果。